Министерство промышленности и торговли России намерено инвестировать 5,7 млрд рублей в разработку оборудования, на котором в дальнейшем будут печатать чипы на кремниевых пластинах, топология – 130-65 нм. Агрегат планируется разработать не позднее 2026 года. Данное оборудование будут задействовать при печатании чипов для автомобильной электроники, кассовых устройств и интернета вещей. Примечательно, в компании Intel еще в 2006 году выпустили процессор Pentium 4 по технологии 65 нм. Он актуален до сих пор.

Чтобы печатать чипы на кремниевых пластинах, специалисты должны разработать оборудование фотолитографического класса. Конкурс Минпромторга на разработку подобного агрегата уже удалось выиграть АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ), предприятие получит от кабмина средства в объеме 5,7 млрд рублей.

В тендерной документации по данному проекту отмечается, что будущая установка должна включать в себя несколько компонентов. Среди них – оригинальное оптическое устройство для распечатывания чипов, загруженная система фотошаблонов, комплекс камер с повышенной точностью стабилизации температур, а также специально разработанное программное обеспечение для гармоничного и эффективного взаимодействия разрозненных модулей. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев отметил, ключевой компонент разрабатываемого оборудования – высокоточный и мощный отечественный лазер. Согласно тендеру, дедлайн по указанным работам – ноябрь 2026 года.

«Несмотря на то, что технология 65 нм вышла на мировом рынке еще 15 лет назад, она до сих пор крайне востребована российскими компаниями в радиоэлектронном сегменте. Пусть она и не самая современная, зато очень ходовая среди множества периферийных микросхем и нынешних микроконтроллеров. Тем более, в случае реализации проекта, наш рынок минимизирует зависимость от импортного оборудования», – рассказал Иван Покровский, исполнительный директор Ассоциации разработчиков и производителей электроники.

По его словам, недостаток агрегатов для распечатки чипов – одна из наболевших проблем в развитии российской радиоэлектронной отрасли. До 2030 года правительство запланировало разработку оборудования с проектными нормами 250–28 нм. В частности, будут разработаны решения 16–14 нм и 22–20 нм. Они используются в смартфонах, серверах и процессорах персональных компьютеров.

источник фото: besthqwallpapers.com